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激光刻膜機(GSF-P1/GSF-P2/GSF-P3)

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更新日期2021-12-06 20:28

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品牌:

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所在地:

江蘇

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長期有效
詳細說明

應用領域

非晶硅膜系太陽能電池的透明導電膜(SnO2、AZO、ITO)非晶硅膜(a-Si、μc-Si)、背電極膜(ZnO、AL)等的激光刻膜(刻線、切割)其它薄膜電池的膜層刻膜(金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜)

產品特點

高速氣浮工作臺:膜面朝上運行;自動識別跟蹤定位

直線電機驅動;自動濕度補償;半導休端面泵浦光纖耦合激光器

四光路同步輸出;自動進出料自動上下料;靜態顯示(動態觀察)

   

技術指標

   

型號規格

GSF-P1

GSF-P2

GSF-P3

激光波長

1064nm

532nm

532nm

有效加工幅畫

1.1×1.4m (635×1245mm)

***大運行速度

2000mm/s

平均刻膜速度

800-1500mm/s

重復定位精度

± 10μm

運動直線度

± 10μm/1000mm

***小刻膜線寬

30-60μm

三線外沿總寬度

300-400μm

 
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