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更新日期2021-12-06 20:27
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應(yīng)用領(lǐng)域
非晶硅膜系太陽能電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、AZO、ITO）非晶硅膜（a-Si 、μc-Si）、背電極膜（ZnO、AL）等的激光刻膜（刻線、切割）其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜）
產(chǎn)品特點(diǎn)
半導(dǎo)休端面泵浦光纖耦合激光器；四光路同步輸出
高速氣浮工作臺：膜面朝上運(yùn)行；自動(dòng)進(jìn)出料自動(dòng)上下料
自動(dòng)識別跟蹤定位；自動(dòng)濕度補(bǔ)償
直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)；靜態(tài)顯示（動(dòng)態(tài)觀察）
技術(shù)指標(biāo)
型號規(guī)格 | GSF-P1 | GSF-P2 | GSF-P3 |
激光波長 | 1064nm | 532nm | 532nm |
有效加工幅畫 | 1.1×1.4m (635×1245mm) | ||
***大運(yùn)行速度 | 2000mm/s | ||
平均刻膜速度 | 800-1500mm/s | ||
重復(fù)定位精度 | ± 10μm | ||
運(yùn)動(dòng)直線度 | ± 10μm/1000mm | ||
***小刻膜線寬 | 30-60μm | ||
三線外沿總寬度 | 300-400μm | ||
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